Н. А. Азаренков, А. А. Бизюков, А. В. Гапон, А. Ф. Целуйко, А. Г. Чунадра

Харьковский национальный университет им. В. Н. Каразина, Украина

Греков Д.Л.

ННЦ "Харьковский физико-технический институт", Украина

Представлены результаты разработки широкоапертурного плазменного источника на поверхностных волнах. Этот источник создан для однородной вакуумно-плазменной обработки изделий диаметром 30 см. Проведенное изучение распределения электромагнитных полей в установке - основа для создания оптимизированной системы ввода ВЧ-мощности.

Содержание