Вакуумный электродуговой источник плазмы с анодным и катодным режимами горения разряда
А. Н. Кузнецов, Н. В. Прахов
Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана, Москва, Россия
Приведены данные экспериментального исследования вакуумно-дугового источника плазмы, работающего в "горячем" режиме с распределенной электродной привязкой. Данное устройство позволяет работать в двух режимах горения разряда: с расходуемым анодом или расходуемым катодом. Для обоих режимов даны параметры разряда, а также температура электронов. Описанный источник плазмы представляет интерес для технологии обработки поверхностей материалов.
Содержание