Особенности ионной имплантации с использованием вакуумно-дугового ионного источника
А. М. Борисов, Н. В. Бородулина, Б. Л. Крит, С. А. Тихонов
МАТИ – Российский Государственный технологический университет им. К. Э. Циолковского, Москва, Россия
Особенность технологических имплантеров с вакуумно-дуговым ионным источником — это сложный зарядовый состав ионного пучка. Рассмотрены модель полиэнергетической высокодозной ионной имплантации, позволяющая прогнозировать профиль распределения внедренных атомов, и ее сравнение с экспериментальными данными.
Содержание