Осаждение углеродных пленок из плазмы дугового разряда без катодного пятна
И. С. Гасанов, И. И. Гурбанов
Институт фотоэлектроники НАН Азербайджана, г. Баку, Республика Азербайджан
Дан анализ PVD-способов синтеза безводородных алмазоподобных пленок с высокой скоростью осаждения частиц. Методика получения покрытий посредством вакуумно-дугового разряда и плазмооптического фильтра обеспечивает наиболее высокие характеристики a-С аморфного алмаза. Однако данный способ синтеза громоздкий и требует значительных затрат. Рассмотрена возможность создания реактора углеродной плазмы в разряде с электронно-лучевым нагревом катода. Контроль вводимой в графитовый катод мощности позволяет существенно ограничить диспергирование испаряемого материала.
Содержание