Исследование величины паразитных аберраций, возникающих вследствие погрешности изготовления тороидальных магнитных отклоняющих систем
М. О. Зотова, Л. Б. Розенфельд, Б. Н. Васичев
ФГУДП НИИ ЭИО «ГУП НПО “Орион”», Москва, Россия
Дано описание методики траекторного контроля влияния дефектов изготовления на электронно-оптические характеристики тороидальных отклоняющих систем (ТОС), основанной на законе Био-Саварра и суммировании полей, создаваемых отдельными, произвольно ориентированными проводниками ТОС. Приведены результаты численных экспериментов по количественной оцененке влияния различных дефектов изготовления отклоняющих систем на возникающие вследствие этого паразитные аберрации. Выявлены наиболее влияющие дефекты. Оценены аберрационные характеристики ТОС, используемых в технологическом электронно-лучевом оборудовании, и показано, что при допуске 0,2 мм размер формируемого на изделии пятна может возрастать при отклонении пучка в несколько раз по сравнению с идеально изготовленной системой.
Содержание