Особенности нанесения покрытий высокочастотной плазмой в динамическом вакууме
И. Ш. Абдуллин, Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов
Казанский государственный технологический университет, г. Казань, Россия
Изучены электромагнитные поля и плотности токов струйного высокочастотного (ВЧ) плазмотрона. Плазменная струя ВЧ-разряда в процессах напыления представляет собой комбинированный разряд, имеющий индукционную и емкостную составляющие, и характеризуется слоем положительного заряда. Исследованы тонкопленочные покрытия, полученные с помощью высокочастотной плазмы при пониженном давлении.
Содержание