ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ


№ 1 Основан в 1994 г. Москва 2009


УДК 535.37

Защитное покрытие лампы низкого давления с парами ртути как решающий фактор срока ее службы

Л. М. Василяк
Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Россия

А. И. Васильев, Л. А. Дроздов, С. В. Костюченко, Д. В. Соколов, А. Ю. Старцев
ЗАО «НПО "Лаборатория импульсной техники"», Москва, Россия

Н. Н. Кудрявцев
Московский физико-технический институт (Государственный университет), г. Долгопрудный Московской обл., Россия

   Спад мощности резонансного УФ-излучения в лампах низкого давления с разрядом в парах ртути и инертных газах определяется образованием слоя адсорбированной ртути на поверхности кварца. Защитное покрытие внутренней стороны кварцевой колбы препятствует адсорбции ртути и увеличивает ресурс лампы. Предложена методика ускоренной оценки качества защитного покрытия и ресурса ламп.

PACS: 68.35.-Р

Ключевые слова: лампа, разряд, ртуть, УФ-излучение, кварц, ресурс, защитное покрытие

Л и т е р а т у р а

1. Справочная книга по светотехнике/ Под ред. Ю. Б. Айзенберга. — М.: Знак, 2006. — 972 с.
2. Рохлин Г. Н. Разрядные источники света. — М.: Энергоатомиздат, 1991. — 720 с.
3. Васильев А. И., Василяк Л. М., Костюченко С. В., Кудрявцев Н. Н., Кузьменко М. Е., Печеркин В. Я. Влияние за-щитного слоя на длительность горения и излучение кварце-вых газоразрядных ламп низкого давления// Письма в ЖТФ. 2006. Т. 32. Вып. 1. С. 83—88.
4. Васильев А. И., Костюченко С. В., Кудрявцев Н. Н., Кузьменко М. Е., Печеркин В. Я. К вопросу о спаде УФ-излучения кварцевых амальгамных ламп низкого давления// 3-й междунар. симпозиум по теоретической и прикладной плазмохимии// Сб. матер./ Ивановский гос. хим.-техн. уни-верситет, 2002. Т. 1. C. 134—139.
5. Васильев А. И., Дроздов Л. А., Василяк Л. М., Костюченко С. В., Кузьменко М. Е., Печеркин В. Я. Исследование взаимодействия плазмы с поверхностью кварца в газоразряд-ных лампах низкого давления// 4-й междунар. симпозиум по теоретической и прикладной плазмохимии// Там же. 2003. Т. 2. C. 153—158.
6. Hildenbrand V. D., Denissen C. J. M., Greerdink L. M., van der Marel C., Snijders J. H. M., Tamminga Y. Interactions of thin oxide films a low-pressure mercury discharge// Thin Solid Films. 2000. V. 371. Р. 295—302.
7. Кузьменко М. Е., Печеркин В. Я., Костюченко С. В. Методика измерения УФ-излучения трубчатых бактерицидных ламп низкого давления// Тез. докл. IV междунар. светотехни-ческой конф. — Вологда. 2000. C. 157—158.
8. Keitz, H. Light calculations and measurement. — London: Macmillan, 1971.

Загрузить статью (PDF-формат)

Содержание