ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЕ ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ МАЛОЙ МОЩНОСТИ

А Ф. Александров, С. Г. Кондранин
Московский государственный университет, Москва, Россия

Г. Э. Бугров, Н. Ф. Воробьев, Е. А Кралькина, В. А. Обухов
Московский авиационный институт, Москва, Россия

А А Рухадзе
Институт общей физики РАН, Москва, Россия

   Изложена общая теория плазменных источников малой мощности, основанных на высокочастотном (ВЧ) методе нагрева и поддержания плазмы. Частота ВЧ-поля лежит между ионной и электронной ленгмюровскими и циклотронными частотами во внешнем продольном магнитном поле, параллельном скорости истечения плазмы. В этих условиях процессы проникновения и поглощения ВЧ-поля в плазму определяются чисто электронной компонентой плазмы. Вместе с тем длина волны ВЧ-поля в вакууме намного превосходит геометрические размеры источника, что позволяет использовать квазистатическое (неволновое) приближение. Рассмотрены примеры цилиндрического и плоского источников плазмы, а также экспериментальной реализации такого источника.

Содержание