НЕУСТОЙЧИВОСТЬ В ОГРАНИЧЕННОЙ
ПЛАЗМЕННОЙ СИСТЕМЕ С ОТНОСИТЕЛЬНЫМ ДВИЖЕНИЕМ
ЭЛЕКТРОНОВ И ИОНОВ

В. А. Туриков, И. В. Ульяницкий
Российский университет дружбы народов, Москва, Россия

          Рассмотрена задача об устойчивости ограниченной плазменной системы, состоящей из движущихся в противоположных направлениях электронного и ионного пучков. Граничные условия для возмущений выбраны с учетом инжекции пучков с фиксированными значениями скорости и плотности в плоскостях проводящих электродов с постоянными потенциалами. Исследована зависимость инкремента неустойчивости от длины системы и проведено сравнение с аналогичной зависимостью для неустойчивости Пирса в случае одного электронного пучка и неподвижного ионного фона.

Содержание журнала "Прикладная физика" N 1, 2000 г.