Численное моделирование
технологического процесса нанесения
тонких пленок в газоразрядных
электронно-лучевых испарителях

В. И. Мельник, И. В. Мельник
Национальный технический университет Украины "Киевский политехнический институт",
Киев, Украина

П. В. Порицкий
Институт ядерных исследований НАН Украины, Киев, Украина

Представлена численно-аналитическая модель процессов, происходящих в газоразрядном электронно-лучевом испарителе. Совместное интегрирование уравнений, описывающих испарение металла с поверхности тигля, его перенос в объеме камеры и его осаждение на подложке позволяют рассчитывать характеристики процессов в зависимости от параметров электронного луча.

Содержание