В работе исследуется применимость моделей кулоновских взаимодействий для расчета искажений изображения в проекционной литографической системе SCALPEL - взаимодействия с полем пространственного заряда и парных взаимодействий. В отличие от [1-3] в данной работе учитывается структура электронного потока, определяемая как структурой проецируемого изображения, так и условиями фокусировки и диафрагмирования. Результаты расчетов показывают, что с увеличением тока взаимодействие с полем пространственного заряда превышает парные взаимодействия. Сферические аберрации, связанные с кулоновскими взаимодействиями, качественно совпадают в обеих моделях. В силу этого делается вывод, что кулоновские потери разрешения в данной системе в основном определяются взаимодействием с полем пространственного заряда. Расчет дисперсии уширения изображения центральной точки показывает, что оптимальный выбор положения плоскости изображения позволяет в несколько раз повысить разрешение системы. При энергии пучка 10 кВ и токе 50 мкА наилучшее разрешение составляет 25 нм.

Содержание