Учет вторичной эмиссии при численном анализе электронно-лучевых приборов
П. И. Акимов
ГУП "Всероссийский электротехнический институт им. В. И. Ленина", Москва, Россия
Рассмотрены вопросы влияния вторичной эмиссии в мощных электронно-лучевых приборах (ЭЛП) типа электронно-лучевых вентилей (ЭЛВ). Предложены математическая модель вторичной эмиссии, достоверно учитывающая характерные вторично-эмиссионные особенности реальных материалов, и алгоритмы ее реализации в программах численного проектирования электронно-оптических систем (ЭОС) ЭЛП. Приведены примеры анализа ЭОС ЭЛВ с учетом влияния вторичной эмиссии.