Прикладная физика
№ 3, 2002 г.

Устройство контроля профиля пучка заряженных частиц

А. Н. Козлов, В. Д. Смольянинов, А. П. Еремин
ФГУДП “НИИ электронной и ионной оптики”, ГУП «НПО «Орион» Москва, Россия

А. М. Филачев
Государственный научный центр ГУП «НПО «Орион», Москва, Россия

   Для обеспечения высокой степени повторяемости технологических процессов, таких как ионное травление, модификация поверхности, напыление тонкоплёночных покрытий и др., необходимо иметь стабильные во времени величины плотности ионного тока, его распределение по сечению пучка с тем, чтобы параметры технологического процесса были идентичными во всех точках обрабатываемой поверхности в течении всего технологического цикла. Для этой цели было разработано устройство для контроля работы ионных источников, генерирующих пучки большого диаметра.
   В статье описано устройство для точного и однозначного воспроизведения профиля пучка положительно или отрицательно заряженных частиц на мониторе с контролем величины плотности тока в каждой точке. Приводятся расчеты ошибок измерения токов для данного устройства.

Содержание