Влияние профиля осевой температуры на профиль осевой скорости в высокочастотном индукционном разряде
А. В. Герасимов, А. П. Кирпичников
Казанский государственный технологический университет, г. Казань, Россия
Проведено численное исследование влияния распределения осевой температуры на профиль осевой скорости в высокочастотном индукционном (ВЧИ) разряде. Полученные результаты подтверждают теорему авторов о неподвижной точке ВЧИ-разряда для реальных ВЧИ-разрядов, у которых распределение осевой температуры несимметрично относительно плоскости центрального сечения плазмоида за счет прокачки плазмообразующего газа через разрядную камеру ВЧИ-плазмотрона.
Содержание