ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ


№ 6 Основан в 1994 г. Москва 2004


ЭЦР — источник плазмы для вакуумных технологий

В. В. Андреев, А. А. Балмашнов, А. М. Умнов
Российский университет дружбы народов, Москва, Россия

   Для формирования однородной плазмы высокой концентрации в области объекта обработки большого диаметра предлагается использовать цилиндрический Н0nq-ре-зонатор, структура электрического поля в котором определяет возможность его проникновения в плазму с концентрацией частиц, превышающей критическое значение.

Содержание