Влияние высокочастотного электромагнитного давления на процесс образования плотной приповерхностной лазерной плазмы
М. А. Яковлев, А. Ю. Волнухин, С. Ю. Ерохин
Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана, Москва, Росси
Представлены результаты численного моделирования пробоя плотного инертного газа электронами пограничного слоя при облучении металлической мишени мощными пикосекундными лазерными импульсами. Показано, что учет электрического поля пограничного слоя приводит к существенному увеличению концентрации затравочных электронов вблизи поверхности мишени, что обеспечивает более быстрое протекание процесса ионизации. Получены зависимости времени пробоя от напряженности электрического поля падающей волны, концентрации атомов газа и высокочастотного электромагнитного давления.
Содержание