ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ
№ 4 |
Основан в 1994 г. |
Москва 2009 |
СОДЕРЖАНИЕ
ОБЩАЯ ФИЗИКА
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
Кирцхалия В. Г., Минаев И. М., Рухадзе А. А., Чоговадзе М. В.
Об аналогии устойчивости тангенциальных разрывов в гидродинамике и бесстолкновительной неизотермической плазме
| | 75 |
Захаров Н. С., Холод С. В.
Влияние процессов ионизации на распространение частотно-модулированных волновых пакетов в разреженных газах
| | 81 |
Алферов Д. Ф., Ахметгареев М. Р., Евсин Д. В., Иванов В. П.
Гашение электрической дуги в вакуумном промежутке с однородным поперечным магнитным полем
| | 86 |
Пашенцев В. Н.
Характеристики плазмы магнетронного разряда на больших расстояниях от катода
| | 91 |
Константинов В. О., Щукин В. Г., Шарафутдинов Р. Г., Карстен В. М., Гартвич Г. Г.,
Семенова О. И.
Получение поликристаллического кремния из моносилана в электронно-пучковой плазме
| | 95 |
Куриленков Ю. К., Тараканов В. П., Гуськов С. Ю.
Инерционное электростатическое удержание и ядерный синтез на основе межэлектродной плазмы наносекундного вакуумного разряда.
Часть II. PIC-моделирование
| | 102 |
ЭЛЕКТРОННЫЕ И ИОННЫЕ ПУЧКИ
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА: ЭЛЕМЕНТНАЯ БАЗА И ТЕХНОЛОГИЯ
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА
Содержание предыдущих выпусков журнала
|