Исследование стекания заряда с поверхности
диэлектрика при обработке электронным лучом

А. М. Филачев

Государственное унитарное предприятие НПО "Орион", Москва, Россия

Б. И. Фукс

Институт радиоэлектроники РАН, Москва, Россия

Д. Э. Гринфельд

Государственное предприятие "НИИ электронной и ионной оптики", Москва, Россия

Рассмотрены физические процессы, имеющие место при электронно-лучевой обработке поверхности диэлектрических материалов. В частности, экспериментально исследованы механизмы стекания внесенного лучом электрического заряда. Обнаружено, что обработка поверхности ряда стекол сопровождается аномально высокой электронной эмиссией, которая приводит к быстрому исчезновению внесенного заряда. Данный эффект не может быть обусловлен вторичной эмиссией электронов.