О скачках плотности в геликонных источниках плазмы

Шамрай К.П.

Научный центр “Институт ядерных исследований” НАН Украины, Киев

Рассмотрено влияние согласующего устройства на динамику разряда в геликонном источнике плазмы. Показано, что при фиксированных условиях согласования коэффициент поглощения ВЧ мощности немонотонно зависит от плотности плазмы, в результате чего возможно существование критических равновесных точек и скачков плотности. При определенных условиях согласования скачков плотности можно избежать в широком диапазоне изменения плотности.