Конструктивные особенности комплекса оборудования для
прецизионной
электронной микролитографии

Б. Н. Васичев
Московский государственный институт электроники и математики (Технический университет),
Москва, Россия

Рассмотрены комплексный подход и конструктивные решения комплексов оборудования для электронной микролитографии при массовом производстве интегральных схем с минимальными размерами элементов топологии до 0,1 мкм и пути одночипового производства заказных больших интегральных схем и микроЭВМ.

Содержание