Отработка технологии создания внутреннего геттера для фоточувствительных приборов с зарядовой связью нового поколения
Е. В. Костюков, М. А. Поспелова, Т. Ф. Русак
ГУП «НПП "Пульсар"», Москва, Россия
С. В. Трунов
АООТ «НИИМЭ и завод "Микрон"», Москва, Россия
При отработке технологии создания внутреннего геттера выяснено, что до стадии создания чистой зоны необходимо вырастить на поверхности пластины защитный окисел толщиной не более 70 Å. Обнаружена корреляция между плотностью преципитатов и убылью концентрации межузельного кислорода, что позволяет заменить разрушающий контроль качества внутреннего геттера неразрушающим. Оптимальная для создания внутреннего геттера концентрация кислорода в кремниевых пластинах лежит в узких пределах (7,5÷9)·1017 см-3.
Содержание